三维电解设备反应的原理

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三维电解设备氧化还原反应：

1.在电场作用下，存在于电表面或溶液相中的修饰物能促进或抑制在电上发生的电子转移反应，而电表面或溶液相中的修饰物本身并不发生变化的一类化学作用。

2.在电解槽内加入外接电源，根据废水性质选用石墨、铁、钛等作为电，三维电解除两个电外，在电解槽中还加入了一些特殊加工的活性填料。当两通电时，这些填料也带电形成*三电。

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氧化反应：当**物在电表面发生阳氧化，可能会发生直接氧化以及间接氧化这两种反应。直接氧化是指**物与电催化层之间直接进行电子传递过程，并且除了电子以外溶液中没有其它物质参与反应，而后者是指**物被电表面催化层产生的氧化物质氧化而除去。直接氧化反应理论上只有在低于电自身析氧电位下该反应才可以进行，而且该反应通常速度都较慢。

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三维电解设备设备还原反应：**物在电表面发生阴还原反应时，可能会发生直接还原反应以及间接还原反应这两种反应。直接还原反应是指**物与电表面催化层进行电子传递，反应速率相对较慢。而相比较而言，间接还原反应的反应速率则要快很多。通过电解产生O2和溶解的O2在阴上发生还原反应产生活性H2O2，并在金属电的作用下产生·OH，反应体系中的**物在·OH的作用下发生氧化反应及自由基链反应，使废水中COD去除。

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